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告诉(c)在Cl2-NDI的1.8nm厚(001)平面中晶体堆积的侧视图。图二、业保掺杂对n型单晶FET特性的影响(a)47μm厚Cl2-NDI晶体在暴露于N-硅烷蒸气(100μl,业保1h)前后FET ID-VG曲线的变化, 暴露之前(空心方块)和之后(实心圆圈)的。
民生(b)Cl2-NDI和PDIF-CN2的分子结构。文献链接:数字山东Site-specificchemicaldopingrevealselectronatmospheresatthesurfacesoforganicsemiconductorcrystals(NatureMaterials,2021,10.1038/s41563-021-01079-z)本文由材料人CYM编译供稿。2019年至今,告诉担任山东大学晶体材料国家重点实验室教授。
(c,业保d)掺杂效应σs和VT与晶体台阶密度之间的关系。(b)掺杂前后Cl2-NDI单晶的UPS能谱,民生以及对应的能带结构。
如今,数字山东有机半导体p型和n型掺杂在工业上被用于降低有机发光二极管显示器的工作电压。
告诉(d)晶体厚度分别为3µm和40µm的Cl2-NDI单晶阶梯密度的AFM图像欢迎大家到材料人宣传科技成果并对文献进行深入解读,业保投稿邮箱:[email protected].投稿以及内容合作可加编辑微信:cailiaokefu.。
然而,民生关于石墨分级相结构演变的详细定量信息,尤其是在快速充电条件下,仍然缺乏。但是,数字山东作者发现石墨锂化过程中的阶段-II(LiC12)→阶段-I(LiC6)转变是将全电池充电至3C以上时的限速步骤。
然而,告诉较厚的电极会阻止电池快速充电,可能会导致不必要的锂镀层,最终导致电池故障。业保文献链接:StructuralEvolutionandTransitionDynamicsinLithiumIonBatteryunderFastCharging:AnOperandoNeutronDiffractionInvestigation.Adv.Sci.,2021,DOI:10.1002/advs.202102318.本文由CQR编译。
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